【制备设备】



多功能离子注入与离子束溅射系统 中国



脉冲激光溅射沉积（PLD）系统 中国



化学气相沉积（PECVD）系统 中国



超高真空磁控溅镀膜 中国



超高真空对靶多功能磁控溅射设备 中国

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单辊旋淬电弧熔炼系统 中国

DK7725C1电火花线切割机 中国

真空电弧炉 中国

真空管式高温烧结炉 中国

 

【分析设备】

物理性能测试系统（PPMS-9） 美国

X射线衍射仪 荷兰

S-4800冷场发射扫描电子显微镜（分析测试中心） 日本

扫描探针显微镜（室温～250°C） 美国

磁电阻测试装置（100～400K） 中国

傅立叶变换红外光谱仪 美国

荧光分光光度计 日本

场发射扫描电镜 日本

振动样品磁强计VSM（80～1200K） 美国

紫外—可见分光光度计 日本

数字源表 美国